[发明专利]自对准多重图案化的原位间隔件整形的方法和系统在审
| 申请号： | 201710763389.9 | 申请日： | 2017-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN107799458A | 公开（公告）日： | 2018-03-13 |
| 发明（设计）人： | 刘志方;安热利克·雷利;高明辉 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/76 | 分类号： | H01L21/76;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 蔡胜有,苏虹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明描述了自对准多重图案化的原位间隔件整形的方法和系统。在实施方案中，在衬底上形成间隔件图案的方法可以包括提供具有间隔件的衬底。该方法还可以包括执行钝化处理以在间隔件上形成钝化层。此外，该方法可以包括执行间隔件整形处理以对间隔件进行整形。该方法还可以包括控制钝化处理和间隔件整形处理以实现间隔件形成目的。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 多重 图案 原位 间隔 整形 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种在衬底上形成间隔件图案的方法，所述方法包括：提供具有间隔件的基底；执行钝化处理以在所述间隔件上形成钝化层；执行间隔件整形处理以对所述间隔件进行整形；以及控制所述钝化处理和所述间隔件整形处理以实现间隔件形成目的。
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