[发明专利]用于电解保护的二极管器件有效

专利信息
申请号: 201710763750.8 申请日: 2017-08-30
公开(公告)号: CN107611182B 公开(公告)日: 2023-09-15
发明(设计)人: 何飞 申请(专利权)人: 常州银河世纪微电子股份有限公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/06
代理公司: 常州市科谊专利代理事务所 32225 代理人: 孙彬
地址: 213022 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种用于电解保护的二极管器件结构,包括P型基底材料,在所述P型基底材料上,从下到上依次设置有的第一区域、第二区域、第三区域和第四区域;第一区域为在P型基底材料的背面进行的大面积的浓磷掺杂区域,该第一区域的方块电阻为0.2‑20Ω/m2,结深为3‑20μm;第二区域为P型基底材料无掺杂的本征区域;所述第三区域为在P型基底材料的上半部进行的淡磷掺杂区域,该第三区域的方块电阻为20‑100Ω/m2,结深10‑40μm;第四区域为在P型基底材料的上表面进行的浓硼掺杂区域;本发明提供一种用于电解保护的二极管器件结构,该结构具有过压保护功能,当两端电压达到一定程度后器件呈低阻状态。
搜索关键词: 用于 电解 保护 二极管 器件
【主权项】:
一种用于电解保护的二极管器件结构,其特征在于:包括P型基底材料,在所述P型基底材料上,从下到上依次设置有的第一区域(1)、第二区域(2)、第三区域(3)和第四区域(4);所述第一区域(1)为在P型基底材料的背面进行的大面积的浓磷掺杂区域,该第一区域(1)的方块电阻为0.2‑20Ω/m2,结深为3‑20μm;所述第二区域(2)为P型基底材料无掺杂的本征区域;所述第三区域(3)为在P型基底材料的上半部进行的淡磷掺杂区域,该第三区域(3)的方块电阻为20‑100Ω/m2,结深10‑40μm;所述第四区域(4)为在P型基底材料的上表面进行的浓硼掺杂区域,该第四区域(4)的方块电阻为0.2‑20Ω/m2,结深为1‑15μm;在所述第四区域(4)的上表面上还设置有表面钝化层(7);上述四个区域形成NPNP型四层结构,此四层结构包括三个PN结,当第一区域(1)与第四区域(4)之间的正向电压使第二区域(2)与第三区域(3)之间的PN结J2击穿时,此四层结构呈导通状态。
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