[发明专利]一种精密高质量的晒版工艺

摘要

本发明提出了一种精密高质量的晒版工艺，包括以下步骤S1版基的处理；S2感光胶层的涂布；S3最佳曝光时间的确定，首先，计算出近似曝光时间；然后按照近似曝光时间的50％网版进行曝光；然后盖住网版的1/N，再按照近似曝光时间的25％进行曝光，即每次多遮盖1/N，并按照前一次曝光时间的50％进行曝光，得到N个曝光程度不同的区域，网版在经过冲洗、烘干、打样后，得到最佳曝光时间；S4根据最佳曝光时间进行晒版；S5在晒版70‑80块时，更换显影液。本发明操作步骤科学合理，在正式晒版之前先确定最佳曝光时间，减少了晒版中的废版的产生率，采用分级的方式依次减少叠加的曝光时间，从而一次性得到多个曝光时间的测试结果，省时省力，节约成本。

主权项

一种精密高质量的晒版工艺，其特征在于，包括以下步骤：S1：版基的处理，其中版基表面清洁，版基上砂目的平均深度RZ＝6‑7μm、砂目的平均粗糙度Ra＝0.65μm；S2：感光胶层的涂布，在网版上涂布感光胶层，其中感光胶层的厚度为1.5g‑2.0g/㎡；S3：最佳曝光时间的确定，首先，计算出近似曝光时间；然后按照近似曝光时间的50％网版进行曝光；然后盖住网版的1/N，再按照近似曝光时间的25％进行曝光，即每次多遮盖1/N，并按照前一次曝光时间的50％进行曝光，得到N个曝光程度不同的区域，网版在经过冲洗、烘干、打样后，得到最佳曝光时间；S4：根据最佳曝光时间进行晒版，晒版选择平行光晒版机进行晒版；S5：在晒版70‑80块时，更换显影液。