[发明专利]一种产生高质量准贝塞尔阵列光束的方法及系统有效
申请号: | 201710765842.X | 申请日: | 2017-08-30 |
公开(公告)号: | CN107329275B | 公开(公告)日: | 2020-05-22 |
发明(设计)人: | 梁春豪;糜宸坤;王飞;蔡阳健 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09;G02B27/28 |
代理公司: | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人: | 李广 |
地址: | 215000 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种产生高质量准贝塞尔阵列光束的方法及系统,该方法包括:产生高斯光束;对高斯光束进行扩束;对扩束后的高斯光束进行调制,生成阵列点光束;将阵列点光束打散,生成完全非相干光束;将完全非相干光束准直,生成部分相干光束;对部分相干光束进行调制,在焦点处生成圆环状涡旋光束;将圆环状涡旋光束聚焦,在焦点处生成准贝塞尔阵列光束。本发明提出的产生高质量准贝塞尔阵列光束的方法及系统,通过使用常见的光学器材,可以产生高质量的准贝塞尔阵列光束,并且可根据需要调控准贝塞尔阵列光束的阵列方式、阵列的个数以及贝塞尔阶数,可产生高功率的准贝塞尔阵列光束,对于工业和国防具有重要的作用,具有广阔的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 产生 质量 准贝塞尔 阵列 光束 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种产生高质量准贝塞尔阵列光束的方法,其特征在于,包括:产生高斯光束;对所述高斯光束进行扩束;对扩束后的高斯光束进行调制,生成阵列点光束;将所述阵列点光束打散,生成完全非相干光束;将所述完全非相干光束准直,生成部分相干光束;对所述部分相干光束进行调制,生成圆环状涡旋光束;将所述圆环状涡旋光束聚焦,在焦点处生成准贝塞尔阵列光束。
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