[发明专利]一种二芳基邻碳硼烷衍生物及其制备方法、应用

摘要

本发明涉及一种二芳基邻碳硼烷衍生物及其制备方法、应用，属于非线性光学材料技术领域。本发明的二芳基邻碳硼烷衍生物，具有如式(Ι)所示的结构，其中，R₁、R₂、R₃分别独立地选自H、F、I、CO₂Et、氨基咔唑基、咔唑基苯基、三芳基氨基或卤代三芳基氨基。该二芳基邻碳硼烷衍生物的制备方法包括如下步骤：将十硼烷Lewis碱络合物、二芳基炔烃、催化剂在溶剂中混合均匀，加热反应4‑24h，反应温度为80℃‑140℃，加淬灭剂淬灭，除去溶剂，即得。本发明的二芳基邻碳硼烷衍生物具有很好的非线性光学(NLO)性质，具有较大极化率β值，最大可达341.44×10^‑30esu，可应用于非线性光学材料。

主权项

1.一种二芳基邻碳硼烷衍生物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：将十硼烷Lewis碱络合物、二芳基炔烃、催化剂在溶剂中混合均匀，在80℃～140℃反应4h～24h，加淬灭剂淬灭，即得；二芳基炔烃具有如下所示的结构：其中，R₁、R₂、R₃分别独立地选自H、F、I、CO₂Et、氨基咔唑基、咔唑基苯基、三芳基氨基或卤代三芳基氨基；所述催化剂为[BMIM]AuCl₄；二芳基炔烃、催化剂的质量比为1:0.01～0.05；所述二芳基邻碳硼烷衍生物选自：