[发明专利]基板处理方法

摘要

一种基板处理方法，其包括：将基板水平保持的基板保持工序；在前述被保持为水平的基板的上表面相向配置相向部件的相向配置工序；由前述被保持为水平的基板、前述相向部件、以及在俯视下包围前述被保持为水平的基板及前述相向部件的挡板形成与外部的环境气体往来被限制的空间的空间形成工序；向前述空间供给非活性气体的非活性气体供给工序；通过一边维持前述空间一边使前述相向部件相对于前述被保持为水平的基板升降从而对前述基板的上表面与前述相向部件之间的间隔进行调整的间隔调整工序；在前述间隔调整工序之后向前述被保持为水平的基板的上表面供给处理液的处理液供给工序。

主权项

一种基板处理方法，包含：基板保持工序，将基板保持为水平；相向配置工序，在被保持为水平的所述基板的上表面相向配置相向部件；空间形成工序，由被保持为水平的所述基板、所述相向部件、以及在俯视下包围被保持为水平的所述基板及所述相向部件的挡板形成与外部的环境气体往来被限制的空间；非活性气体供给工序，向所述空间供给非活性气体；间隔调整工序，通过一边维持所述空间一边使所述相向部件相对于被保持为水平的所述基板升降，来调整所述基板的上表面与所述相向部件之间的间隔；处理液供给工序，在所述间隔调整工序之后向被保持为水平的所述基板的上表面供给处理液。