[发明专利]锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法有效

专利信息
申请号: 201710771096.5 申请日: 2017-08-31
公开(公告)号: CN107793337B 公开(公告)日: 2020-09-08
发明(设计)人: 三井亮;藤原敬之;谷口良辅;长谷川幸士;大桥正树 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: C07C381/12 分类号: C07C381/12;C07D327/08;C07D333/76;C07D339/08;G03F7/004
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 何杨
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。对于改善对比度有效的、含有酸消除性取代基的锍盐,其高度可溶,可均匀分散。包含锍盐作为光致产酸剂的抗蚀剂组合物形成具有高的分辨率、矩形性和降低的LWR的图案。
搜索关键词: 化合物 抗蚀剂 组合 图案 方法
【主权项】:
锍化合物,其具有式(1A)、(1B)或(1C):其中,L1是可含有含杂原子基的C1‑C20直链、支化或环状的二价烃基;X是二价连接基团;A是单键,亚甲基,羰基,亚磺酰基,磺酰基,氨基,醚键,硫醚键,酯键,碳酸酯键,氨基甲酸酯键或磺酸酯键;R1a‑R1c各自独立地是可含有含杂原子基的C1‑C20直链、支化或环状的一价烃基,R1a‑R1c中的至少一个是具有下示式(2)的基团,当包含至少两个R1a基团时,其中的两个可键合在一起以和与其相连的苯环上的碳原子形成环,当包含至少两个R1b基团时,其中的两个可键合在一起以和与其相连的苯环上的碳原子形成环,当包含至少两个R1c基团时,其中的两个可键合在一起以和与其相连的苯环上的碳原子形成环;m1、m2和m3是满足0≤m1≤5,0≤m2≤5,0≤m3≤4且m1+m2+m3≥1的整数;n1、n2和n3是满足0≤n1≤4,0≤n2≤4,0≤n3≤4且n1+n2+n3≥1的整数;k1、k2和k3是满足0≤k1≤5,0≤k2≤4,0≤k3≤3且k1+k2+k3≥1的整数;其中L2是可含有含杂原子基的C1‑C20直链、支化或环状的二价烃基;R2是酸消除性基团,Rf1和Rf2各自独立地是氢,C1‑C20直链、支化或环状的烷基,氟或C1‑C20直链、支化或环状的氟代烷基,Rf1和Rf2中的至少一个是氟或氟代烷基,虚线表示价键。
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