[发明专利]KHg4Ga5Se12非线性光学晶体、其制备方法和非线性光学器件在审

专利信息
申请号: 201710772239.4 申请日: 2017-08-31
公开(公告)号: CN109097835A 公开(公告)日: 2018-12-28
发明(设计)人: 姚吉勇;周墨林;郭扬武;张国春;吴以成 申请(专利权)人: 中国科学院理化技术研究所
主分类号: C30B29/46 分类号: C30B29/46;C30B11/00;G02F1/355
代理公司: 北京方安思达知识产权代理有限公司 11472 代理人: 陈琳琳;李彪
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了KHg4Ga5Se12非线性光学晶体及制法和用途。本发明的KHg4Ga5Se12非线性光学晶体采用高温熔体自发结晶法或坩埚下降法生长;在该KHg4Ga5Se12非线性光学晶体的生长中,晶体具有生长速度较快、成本低、容易获得较大尺寸晶体等优点;所得KHg4Ga5Se12非线性光学晶体具有非线性光学效应极大、透光波段宽,硬度较大,机械性能好,易于加工等优点。本发明的KHg4Ga5Se12非线性光学晶体可用于制作非线性光学器件。
搜索关键词: 非线性光学晶体 非线性光学器件 机械性能 高温熔体自发结晶法 非线性光学效应 坩埚下降法生长 大尺寸晶体 生长 波段 透光 可用 制法 制备 加工 制作
【主权项】:
1.一种KHg4Ga5Se12非线性光学晶体,该KHg4Ga5Se12非线性光学晶体不具备有对称中心,属三方晶系,空间群为R3,其晶胞参数为:α=β=90°,γ=120°,Z=3。
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