[发明专利]一种电镀废水深度除氟系统及方法在审

专利信息
申请号: 201710774062.1 申请日: 2017-08-31
公开(公告)号: CN107487939A 公开(公告)日: 2017-12-19
发明(设计)人: 龚波;杨柽瀚;林贵彪;邹丽娜 申请(专利权)人: 惠州金茂源环保科技有限公司
主分类号: C02F9/14 分类号: C02F9/14;C02F101/14;C02F103/16
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司44245 代理人: 蒋剑明
地址: 516121 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种电镀废水深度除氟系统及方法,所述系统包括依次连接的生化处理单元、深度除氟单元;所述方法包括S1、将电镀废水进行生化处理;S2、将经过步骤S1生化处理后的电镀废水进行深度除氟处理,深度除氟处理后即可达标排放;本发明增加利用生化活性污泥法对电镀废水进行除磷处理,然后进行吸附沉淀工序,初步除去氟离子,并采用深度除氟处理工艺,先利用聚丙烯酰胺水溶液进行一次沉淀处理,再联合使用钙盐加铝盐进行化学沉淀,最后利用聚丙烯酰胺水溶液进行二次沉淀处理,有效降低氟化物含量,杜绝了电镀废水氟化物的排放,提高电镀废水处理效率和社会经济效益,实现清洁生产,节能减排,减少对环境的污染。
搜索关键词: 一种 电镀 废水 深度 系统 方法
【主权项】:
一种电镀废水深度除氟系统,其特征在于,包括依次连接的生化处理单元、深度除氟单元;所述的生化处理单元包括依次连接的活性污泥系统、中沉池和二沉池;所述的深度除氟单元包括依次连接的吸附沉淀池、一次沉淀池、无机铝盐反应池和二次沉淀池;所述的一次沉淀池的工艺参数为:投放氧化钙,控制所述的一次沉淀池内溶液的pH值=7.0,并投放聚丙烯酰胺水溶液,聚丙烯酰胺和水的质量比为(1~3):1000;所述的二次沉淀池的工艺参数为:投放氧化钙,控制所述的二次沉淀池内溶液的pH值=11.0,并投放聚丙烯酰胺水溶液,聚丙烯酰胺和水的质量比为(1~3):1000。
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