[发明专利]曝光方法、测量方法以及曝光装置

摘要

本发明提供了一种曝光方法、测量方法以及曝光装置，所述曝光方法包括：得到工件台、掩模台和投影物镜的垂向正交多项式运动轨迹；得到工件台、掩模台和投影物镜的水平向正交多项式运动轨迹；将垂向正交多项式运动轨迹与水平向正交多项式运动轨迹的轨迹系数发给执行机构。在本发明提供的曝光方法、测量方法以及曝光装置中，所述曝光方法获取掩模板以及基板的面形信息的畸变信息，根据坐标系关系拆解得到所述工件台、所述掩模台、空间像的位置轨迹系数，通过投影物镜的补偿、总的工件台的面形补偿量、总的工件台的栅格变形补偿量，确定垂向正交多项式运动轨迹与水平向正交多项式运动轨迹，通过执行机构在曝光时同步执行所规划轨迹，确保了曝光精度。

主权项

1.一种曝光方法，其特征在于，所述曝光方法包括：将掩模板设置在掩模台上，将基板设置在工件台上；测量所述基板上表面多点高度，平面拟合得到全局调平所述工件台的高度和倾斜设定值，使所述基板上表面与焦面重合；测量得到所述掩模板的图形面的面形信息和畸变信息；测量得到投影物镜的焦面信息；测量得到所述基板的面形信息和畸变信息；通过二维正交多项式系数拟合，得到所述掩模板的图形面的面形系数、所述基板上表面的面形系数、所述掩模板的图形面相对于所述基板的待曝光面的畸变系数；按照所述工件台、所述掩模台、所述投影物镜布局的相对坐标系关系，将所述图形面的面形系数、所述上表面的面形系数和所述待曝光面的畸变系数拆解成所述工件台、所述掩模台、空间像的位置轨迹系数；将所述基板的面形拆解为二维正交多项式表达，由所述工件台补偿所述基板的面形的0阶量、1阶量、1阶交叉量，由所述投影物镜补偿所述基板的面形的高阶量；将所述基板的畸变拆解为二维正交多项式表达，光刻机对三阶以内所述基板的畸变量进行补偿；对所述掩模板的面形的补偿量进行拆分，所述掩模台补偿所述掩模板的畸变的0～3阶量，所述投影物镜补偿由物镜拼接导致的1～3阶校正残差量；将所述基板的栅格拆解为二维正交多项式表达，由所述工件台补偿所述基板的栅格的0阶量、1阶量、1阶交叉量，由所述投影物镜补偿所述基板的栅格的高阶量；将所述掩模板的栅格拆解为二维正交多项式表达，由所述掩模台补偿所述掩模板的栅格的0～3阶量，所述投影物镜补偿由物镜拼接导致的1～3阶校正残差量；将所述工件台对所述掩模板的面形的补偿量和所述基板的面形的补偿量合并，得到所述工件台总的面形补偿量，对所述工件台、所述掩模台和所述投影物镜的面形补偿量进行正交多项式拟合，得到所述工件台、所述掩模台和所述投影物镜的垂向正交多项式运动轨迹；将所述工件台对所述掩模板的栅格的补偿量和所述基板的栅格的补偿量合并，得到所述工件台总的栅格变形补偿量，对所述工件台、所述掩模台和所述投影物镜的栅格变形补偿量进行正交多项式拟合，得到所述工件台、所述掩模台和所述投影物镜的水平向正交多项式运动轨迹；将所述垂向正交多项式运动轨迹与所述水平向正交多项式运动轨迹的轨迹系数发给执行机构，所述执行机构在曝光时同步执行所规划轨迹。