[发明专利]一种掩膜板的夹具、掩膜板清洗系统及清洗掩膜板的方法有效
申请号: | 201710776234.9 | 申请日: | 2017-08-31 |
公开(公告)号: | CN107526247B | 公开(公告)日: | 2020-12-04 |
发明(设计)人: | 潘晟恺;熊腾青;刘杰;杨凯;乔永康;李如 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;B08B11/00;B08B11/02 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种掩膜板的夹具、掩膜板清洗系统及清洗掩膜板的方法,涉及掩膜板清洗设备技术领域,为解决现有的掩膜板清洗系统的对掩膜板清洗效果不好的问题而发明。该掩膜板的夹具,包括:吊架;固定架,所述固定架用于固定掩膜板,所述固定架与所述吊架转动连接,且转动的中心轴线沿所述固定架的横向延伸;第一驱动装置,所述第一驱动装置固定于所述吊架上,并与所述固定架相连接,所述第一驱动装置用于驱动所述固定架相对所述吊架之间的转动。本发明可用于掩膜板的清洗。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 夹具 清洗 系统 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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