[发明专利]纹理处理方法和单元有效
| 申请号： | 201710785751.2 | 申请日： | 2017-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN108022282B | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | 郑圣勋 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G06T15/00 | 分类号： | G06T15/00;G06T15/04 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 王兆赓;张川绪 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种纹理处理方法和单元。一种纹理处理单元包括：控制器，被配置为基于指示第一细化贴图和第二细化贴图对纹理过滤的影响的细节层次(LOD)权重确定对第一细化贴图执行计算的第一计算器和对第二细化贴图执行计算的第二计算器，其中，所述影响基于图形的LOD值；纹理过滤器，被配置为通过使用第一计算器和第二计算器执行纹理过滤，其中，第一计算器的计算精度与第二计算器的计算精度不同。 | ||
| 搜索关键词： | 纹理 处理 方法 单元 | ||
【主权项】：
1.一种纹理处理单元，包括：控制器，被配置为基于指示第一细化贴图和第二细化贴图对纹理过滤的影响的细节层次LOD权重确定对第一细化贴图执行计算的第一计算器和对第二细化贴图执行计算的第二计算器，其中，所述影响基于图形的LOD值；纹理过滤器，被配置为通过使用第一计算器和第二计算器执行纹理过滤，其中，第一计算器的计算精度与第二计算器的计算精度不同。
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