[发明专利]一种改善灰阶斜纹的过孔结构有效
| 申请号： | 201710785784.7 | 申请日： | 2017-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN107479286B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 宋乔乔;姚晓慧 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种改善灰阶斜纹的过孔结构，包括色阻层、阵列基板，所述色阻层覆于所述阵列基板上，所述色阻层设有过孔，该过孔的孔壁与所述色组层上表面之间为平滑过渡的弧形面；其中，所述过孔对应所述阵列基板中PV层的蚀刻区。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 斜纹 结构 | ||
【主权项】：
一种改善灰阶斜纹的过孔结构，包括色阻层、阵列基板，所述色阻层覆于所述阵列基板上，所述色阻层设有过孔，其特征在于，该过孔的孔壁与所述色组层上表面之间为平滑过渡的弧形面；其中，所述过孔对应所述阵列基板中PV层的蚀刻区。
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