[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置在审
| 申请号： | 201710791691.5 | 申请日： | 2017-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN107589606A | 公开（公告）日： | 2018-01-16 |
| 发明（设计）人： | 张心杰;刘成伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1368;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京风雅颂专利代理有限公司11403 | 代理人： | 李莎,李弘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板制作方法，包括在制作栅极层时，将所述栅极层中的栅极引线与参考信号线电性连接；在制作完成有源层后，断开所述栅极引线与所述参考信号线的电性连接。本发明还公开了一种阵列基板和显示装置。本发明提出的阵列基板及其制作方法、显示装置，能够防止有源层在制作时被静电击穿。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板制作方法，其特征在于，包括：在制作栅极层时，将所述栅极层中的栅极引线与参考信号线电性连接；在制作完成有源层后，断开所述栅极引线与所述参考信号线的电性连接。
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