[发明专利]施力可调节测量装置在审
| 申请号： | 201710792270.4 | 申请日： | 2017-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN107422752A | 公开（公告）日： | 2017-12-01 |
| 发明（设计）人： | 李芳;程海洋;雍占琦;王伟丽 | 申请（专利权）人： | 机科发展科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G05D15/00 | 分类号： | G05D15/00;G01B21/00 |
| 代理公司： | 北京华夏正合知识产权代理事务所(普通合伙)11017 | 代理人： | 韩登营,高伟 |
| 地址： | 100000*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够提高施力调节效率的施力可调节测量装置。本发明的施力可调节测量装置具有测量单元(3)与可调节施力单元(2)，所述测量单元(3)上能够放置被测物体并对该被测物体定位，所述可调节施力单元(2)具有对所述被测物体施力的压头(22)，在所述被测物体被所述压头(22)施力的状态下，所述测量单元(3)进行检测。施力可调节测量装置还具有传输单元(1)，所述传输单元(1)具有驱动所述压头(22)移动的伺服机构(11)。所述可调节施力单元(2)具有监测所述压头(22)对被测物体施加的压力的压力传感器(21)。 | ||
| 搜索关键词： | 施力 调节 测量 装置 | ||
【主权项】：
一种施力可调节测量装置，其具有测量单元(3)与可调节施力单元(2)，所述测量单元(3)上能够放置被测物体并对该被测物体定位，所述可调节施力单元(2)具有对所述被测物体施力的压头(22)，在所述被测物体被所述压头(22)施力的状态下，所述测量单元(3)进行检测，其特征在于，还具有传输单元(1)，所述传输单元(1)具有驱动所述压头(22)移动的伺服机构(11)所述可调节施力单元(2)具有监测所述压头(22)对被测物体施加的压力的压力传感器(21)。
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