[发明专利]离子注入装置及离子注入方法有效
| 申请号： | 201710794382.3 | 申请日： | 2017-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN107799377B | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 石桥和久;二宫史郎;越智昭浩;弓山敏男 | 申请（专利权）人： | 住友重机械离子技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/302 | 分类号： | H01J37/302;H01J37/317 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种离子注入装置及离子注入方法，其课题为实现作为目标的不均匀的二维离子注入量分布。本发明的离子注入装置(10)具备：射束扫描仪(26)，按照扫描波形沿射束扫描方向提供往复射束扫描；机械扫描仪，使晶片(W)沿机械扫描方向往复运动；及控制装置(60)，控制射束扫描仪(26)及机械扫描仪，以对晶片表面施以目标二维剂量分布。控制装置(60)具备：扫描频率调整部，按照目标二维剂量分布来确定扫描波形的频率；及射束扫描仪驱动部，使用具有扫描频率调整部所确定的频率的扫描波形来驱动射束扫描仪。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种离子注入装置，其特征在于，具备：射束扫描仪，按照扫描波形沿射束扫描方向提供往复射束扫描；机械扫描仪，使晶片沿机械扫描方向往复运动；及控制装置，控制所述射束扫描仪及所述机械扫描仪，以对晶片表面施以目标二维剂量分布，所述控制装置具备：扫描频率调整部，按照所述目标二维剂量分布来确定所述扫描波形的频率；及射束扫描仪驱动部，使用具有所述扫描频率调整部所确定的频率的扫描波形来驱动所述射束扫描仪。
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