[发明专利]光刻方法

摘要

本公开实施例提供光刻光致抗蚀剂材料与对应的光刻技术以改善光刻分辨率，特别是在显影时降低光致抗蚀剂层的膨润现象。例示性的光刻方法包含在光致抗蚀剂层上进行处理工艺，使光致抗蚀剂层的酸活性基团组成经由可交联功能组成进行交联反应；在光致抗蚀剂层上进行曝光工艺；以及在光致抗蚀剂层上进行显影工艺。在一些实施方式中，曝光工艺后的光致抗蚀剂层包含曝光部分与未曝光部分，且处理工艺可增加未曝光部分中的聚合物分子量，以降低未曝光部分对显影工艺采用的显影剂的溶解度。处理工艺可在曝光工艺之前或之后进行。处理工艺可包含进行热处理和/或电磁波处理，以加热光致抗蚀剂层。

主权项

1.一种光刻方法，包括：在一光致抗蚀剂层上进行一处理工艺，使该光致抗蚀剂层的酸活性基团组成经由可交联功能组成产生交联；在该光致抗蚀剂层上进行一曝光工艺；以及在该光致抗蚀剂层上进行一显影工艺，以形成一图案化光致抗蚀剂层于一工件上。