[发明专利]一种结构光投影模组和深度相机有效
申请号: | 201710805760.3 | 申请日: | 2017-09-08 |
公开(公告)号: | CN107703641B | 公开(公告)日: | 2019-12-13 |
发明(设计)人: | 许星 | 申请(专利权)人: | 深圳奥比中光科技有限公司 |
主分类号: | G02B27/42 | 分类号: | G02B27/42;G03B35/00;G03B15/02 |
代理公司: | 44223 深圳新创友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王震宇 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种结构光投影模组和深度相机,该结构光投影模组包括:光源,包括布置成二维阵列的多个子光源,用于发射与所述二维阵列一致的二维图案光束;衍射光学元件,接收所述二维图案化光束,并投射出多个彼此不相重叠的二维图案化光束,每个二维图案化光束对应产生一个复制图案,多个不相重叠的所述复制图案组成密度分布均匀的斑点图案。本发明的结构光投影模组能够在满足不相关性的条件下投影出密度分布均匀的组合斑点图案。 | ||
搜索关键词: | 一种 结构 投影 模组 深度 相机 | ||
【主权项】:
1.一种结构光投影模组,其特征在于,包括:/n光源,包括布置成二维阵列的多个子光源,用于发射与所述二维阵列一致的二维图案光束;/n衍射光学元件,接收所述二维图案化光束,并投射出多个复制图案,每个复制图案是由所述多个子光源对应的相同衍射级数的光斑共同组成的区域,/n所述光源和所述衍射光学元件经配置以满足下式:/nM∈[(1-Δ
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