[发明专利]一种振镜矫正系统及方法有效
申请号: | 201710807754.1 | 申请日: | 2017-09-08 |
公开(公告)号: | CN109471333B | 公开(公告)日: | 2020-05-01 |
发明(设计)人: | 唐江锋;刘志宇;朱振朋 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种振镜矫正系统及方法,通过以下步骤实现:S1:保持振镜扫描系统不动,使振镜光轴沿x向和y向依次进行场内曝光,在x向和y向依次打点并形成光斑,光斑位置测量装置对振镜扫描系统产生的所有光斑的位置进行测量并记录;S2:将光斑位置测量装置测量得到的数据带入场内套刻模型得到当前振镜的场内误差参数;S3:计算获得到待补偿的振镜场内误差量;S4:将S3中得出的x向和y向的误差量带回到振镜控制器中进行重新打点,并对重新打出的光斑进行检测以及精度判断,如精度不满足,重复S1至S3,满足则停止,完成矫正。本发明提供的一种振镜矫正系统及方法矫正效果好。 | ||
搜索关键词: | 一种 矫正 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种振镜矫正方法,其特征在于,通过以下步骤实现:S1:保持振镜扫描系统不动,使振镜光轴沿x向和y向依次进行场内曝光,在x向和y向依次打点并形成光斑,光斑位置测量装置对振镜扫描系统产生的所有光斑的位置进行测量并记录;S2:将光斑位置测量装置测量得到的数据带入场内套刻模型得到当前振镜的场内误差参数;S3:计算获得到待补偿的振镜场内误差量;S4:将S3中得出的x向和y向的误差量带回到振镜控制器中进行重新打点,并对重新打出的光斑进行检测以及精度判断,如精度不满足,重复S1至S3,满足则停止,完成矫正。
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