[发明专利]一种偶联处理方法在审
| 申请号： | 201710813864.9 | 申请日： | 2017-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN107520102A | 公开（公告）日： | 2017-12-29 |
| 发明（设计）人： | 杨兴;姚嘉林;徐若煊;熊威 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | B05D3/00 | 分类号： | B05D3/00;B05D3/04 |
| 代理公司： | 北京博讯知识产权代理事务所(特殊普通合伙)11593 | 代理人： | 吕战竹 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种偶联处理方法，用于在目标元器件的表面上形成偶联剂分子的自限分子层，所述偶联处理方法利用偶联剂在真空环境下进行偶联反应，以获得所述自限分子层，其中，偶联反应所利用的偶联剂为不含水的偶联剂。本发明的偶联处理方法中，无需采用含水的偶联剂进行偶联反应，使得目标元器件能够在不含水的偶联剂的干燥环境中完成偶联反应，免除了元器件在形成涂层的过程中因接触水而可能造成的腐蚀或损坏问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种偶联处理方法，用于在目标元器件的表面上形成偶联剂分子的自限分子层，其特征在于，所述偶联处理方法利用偶联剂在真空环境下进行偶联反应，以获得所述自限分子层，其中，偶联反应所利用的偶联剂为不含水的偶联剂。
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