[发明专利]双向超越离合器在审

专利信息
申请号: 201710824261.9 申请日: 2017-09-13
公开(公告)号: CN107654528A 公开(公告)日: 2018-02-02
发明(设计)人: 于学增 申请(专利权)人: 于学增
主分类号: F16D41/067 分类号: F16D41/067
代理公司: 北京中企鸿阳知识产权代理事务所(普通合伙)11487 代理人: 郭鸿雁
地址: 102206 北京*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明一种双向超越离合器,包括内环和外环,内环与外环之间设有两者能够相对运动的活动空间,活动空间内设有滚柱保持架,滚柱保持架安装在保持架兰盘上,滚柱保持架上均匀设有环绕其圆心的安装孔,安装孔内放置有滚柱,内环的外侧均匀环绕有沿其圆周设置的凸块,相邻凸块之间的连接线与内环的外侧相切形成第一平面,凸块的顶端设有第二平面,滚柱保持架的外侧设有向外延伸的凸出部;还包括挡件,挡件位于凸出部的一侧。本发明要解决的技术问题是提供一种结构紧凑、传动精度高、定位准确、噪音小的双向超越离合器。本发明要解决的技术问题是提供一种结构紧凑、应用范围广、振动噪音小的双向超越离合器。
搜索关键词: 双向 超越离合器
【主权项】:
一种双向超越离合器,包括内环和外环,其特征在于:所述内环与外环之间设有两者能够相对运动的活动空间,所述活动空间内设有滚柱保持架,所述滚柱保持架安装在保持架兰盘上,所述滚柱保持架上均匀设有环绕其圆心的安装孔,所述安装孔内放置有滚柱,所述内环的外侧均匀环绕有沿其圆周设置的凸块,相邻所述凸块之间的连接线与所述内环的外侧相切形成第一平面,所述凸块的顶端设有第二平面,所述滚柱保持架的外侧设有向外延伸的凸出部;还包括挡件,所述挡件位于凸出部的一侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于于学增,未经于学增许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710824261.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top