[发明专利]一种AMOLED显示屏的制作方法在审

专利信息
申请号: 201710825454.6 申请日: 2017-09-14
公开(公告)号: CN107732028A 公开(公告)日: 2018-02-23
发明(设计)人: 白航空 申请(专利权)人: 合肥惠科金扬科技有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;G02F1/1335
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 230000 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种AMOLED显示屏的制作方法,包括以下步骤(1)对阵列基板进行刻蚀,在所述阵列基板上开设有贯穿所述阵列基板的两侧的接口电路槽;在所述基板上沉积第一金属层,在所述接口电路槽处形成接口电路区域,并对所述第一金属层进行刻蚀,在所述第一金属层上形成连接所述接口电路区域的走线;(2)在所述第一金属层上沉积平坦化层,并对所述平坦化层进行刻蚀,在所述平坦化层上开设第一通孔,使得所述第一通孔连通到所述第一金属层;(3)在边框胶固化前,在阵列基板背面边框胶以内的区域设置避光层;对设置有避光层的阵列基板进行照射,完成边框胶的固化;(4)在边框胶固化完成后,去除所述避光层。
搜索关键词: 一种 amoled 显示屏 制作方法
【主权项】:
一种AMOLED显示屏的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)对阵列基板进行刻蚀,在所述阵列基板上开设有贯穿所述阵列基板的两侧的接口电路槽;在所述基板上沉积第一金属层,在所述接口电路槽处形成接口电路区域,并对所述第一金属层进行刻蚀,在所述第一金属层上形成连接所述接口电路区域的走线;(2)在所述第一金属层上沉积平坦化层,并对所述平坦化层进行刻蚀,在所述平坦化层上开设第一通孔,使得所述第一通孔连通到所述第一金属层;(3)在边框胶固化前,在阵列基板背面边框胶以内的区域设置避光层;对设置有避光层的阵列基板进行照射,完成边框胶的固化;(4)在边框胶固化完成后,去除所述避光层。
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