[发明专利]光学放大系统及其控制方法在审
申请号: | 201710826866.1 | 申请日: | 2017-09-14 |
公开(公告)号: | CN107834355A | 公开(公告)日: | 2018-03-23 |
发明(设计)人: | 本田昌宽 | 申请(专利权)人: | 住友电工光电子器件创新株式会社 |
主分类号: | H01S5/022 | 分类号: | H01S5/022;H01S5/026 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 顾红霞,何胜勇 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开一种光学放大系统。所述光学放大系统包括热电冷却器和安装在所述热电冷却器上的半导体激光二极管。决定于受所述热电冷却器控制的所述半导体激光二极管的温度,所述半导体激光二极管产生具有设计波长的调制光学信号。所述光学放大系统还包括半导体光学放大器,其放大从所述半导体激光二极管输出的所述调制光学信号。所述光学放大系统的特征在于所述半导体光学放大器的温度高于所述半导体激光二极管的所述温度。 | ||
搜索关键词: | 光学 放大 系统 及其 控制 方法 | ||
【主权项】:
一种光学放大系统,包括:热电冷却器;半导体激光二极管,其安装在所述热电冷却器上,决定于受所述热电冷却器控制的所述半导体激光二极管的温度,所述半导体激光二极管产生具有设计波长的调制光学信号;以及半导体光学放大器,其放大从所述半导体激光二极管输出的所述调制光学信号,其中,所述半导体光学放大器的温度高于所述半导体激光二极管的所述温度。
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