[发明专利]分析试片及其制备方法与材料分析的方法在审

专利信息
申请号: 201710844739.4 申请日: 2017-09-19
公开(公告)号: CN109521080A 公开(公告)日: 2019-03-26
发明(设计)人: 洪世玮;李正中 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62;G01N1/28;H01L21/66
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 顾伯兴
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明实施例提供一种分析试片、分析试片的制备方法以及材料分析的方法。分析试片包括待测物。待测物为锥体。待测物的底部接着于载座上。待测物包括多个特征结构。多个特征结构沿着待测物的长轴排列。
搜索关键词: 待测物 试片 材料分析 特征结构 制备 分析 长轴 载座 锥体
【主权项】:
1.一种分析试片,其特征在于,包括:待测物,其中所述待测物为锥体,所述待测物的底部接着于载座上,所述待测物包括多个特征结构,所述多个特征结构沿着所述待测物的长轴排列。
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