[发明专利]高空穴移动率晶体管有效

专利信息
申请号: 201710844740.7 申请日: 2017-09-19
公开(公告)号: CN109524460B 公开(公告)日: 2022-05-17
发明(设计)人: 陈富信;林永豪;林鑫成;林信志;黄嘉庆 申请(专利权)人: 世界先进积体电路股份有限公司
主分类号: H01L29/778 分类号: H01L29/778;H01L29/06;H01L21/335
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 王涛;贾磊
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明实施例提供一种高空穴移动率晶体管,包括:背阻挡层,位于基板上;导通层,位于背阻挡层上;通道区,位于导通层中,邻近导通层与背阻挡层的界面;掺杂层,位于导通层上;栅极电极,位于掺杂层上;源极/漏极电极,分别位于栅极电极的两相对侧;及能带调整层,位于掺杂层上,并与栅极电极电连接;其中能带调整层为N型掺杂三五族半导体。本发明可形成增强型高空穴移动率晶体管,同时保持良好均匀性及通道低阻值。
搜索关键词: 空穴 移动 晶体管
【主权项】:
1.一种高空穴移动率晶体管,其特征在于,包括:一背阻挡层,位于一基板上;一导通层,位于该背阻挡层上;一通道区,位于该导通层中,邻近该导通层与该背阻挡层的一介面;一掺杂层,位于该导通层上;一栅极电极,位于该掺杂层上;一源极/漏极电极,分别位于该栅极电极的两相对侧;及一能带调整层,位于该掺杂层上,并与该栅极电极电连接;其中该能带调整层为N型掺杂三五族半导体。
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