[发明专利]降低串扰和提高量子效率的图像传感器结构有效
申请号: | 201710859812.5 | 申请日: | 2012-08-27 |
公开(公告)号: | CN107482028B | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 蔡双吉;杨敦年;刘人诚;洪丰基;林政贤;王文德 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李伟 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了降低串扰和提高量子效率的图像传感器结构,其中,一种半导体器件包括:衬底,包括结合光电二极管的像素区域;栅格,设置在衬底上方并具有限定与像素区域垂直对准的腔的壁;滤色器材料,设置在栅格的壁之间的腔中。 | ||
搜索关键词: | 降低 提高 量子 效率 图像传感器 结构 | ||
【主权项】:
一种半导体器件,包括:衬底,包括像素区域、结合焊盘结构和介于所述像素区域和所述结合焊盘结构之间的暗电平校正部件的区域,所述像素区域结合光电二极管;栅格,设置在位于所述衬底之上的背照式膜的上方并与所述背照式膜接触,所述栅格包括金属,所述栅格具有限定腔的从所述背照式膜的顶表面向外突出的壁,所述腔与所述像素区域垂直对准,其中,所述背照式膜包括形成在抗反射涂层ARC表面的等离子体增强氧化物PEOx层;以及屏蔽件设置在所述背照式膜的上方,所述屏蔽件与所述栅格由同一材料形成在同一层且与所述栅格以间隔分开,所述间隔垂直对准所述像素区域,所述屏蔽件位于所述暗电平校正部件的区域正上方;滤色器,设置在所述栅格的壁之间的腔和所述间隔中,所述滤色器的顶面与所述栅格的壁的顶面共面,所述间隔中滤色器的侧壁接触所述屏蔽件的侧壁和所述间隔的壁。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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