[发明专利]耐蚀抗菌的含银MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法

摘要

本发明采用双阴极等离子溅射沉积及离子氧化方法制备耐蚀抗菌的含银MoO₃‑SiO₂纳米晶复合涂层，具体工艺参数如下：靶材电压800V~1000V，工件电压250V~350V，靶材与工件间距10mm~20mm，Ar气压25Pa~40Pa，沉积温度750℃~950℃，沉积时间3.0h~5.0h；离子氧化工艺参数：靶材电压650V~750V,工件电压250V~350V，靶材与工件间距10mm~15mm，Ar气压25Pa~40Pa，O₂分压0.1Pa~1.0Pa，氧化时间1.5h~2.0h；本发明方法获得的含银MoO₃‑SiO₂纳米晶复合涂层具有高硬度、高韧性以及优异的耐海洋腐蚀和抗微生物腐蚀能力，能明显提高海洋材料的316L不锈钢的耐磨性、抗腐蚀性能和抗菌性能。

主权项

1.一种耐蚀抗菌的含银MoO₃‑SiO₂纳米晶复合涂层的制备方法，其特征在于，具体步骤如下：a.首先利用双阴极等离子溅射Mo‑Si‑Ag层，工艺参数：靶材电压800V~1000V，工件电压250V~350V，靶材与工件间距10mm~20mm，Ar气压25Pa~40Pa，沉积温度750℃~950℃，沉积时间3.0h~5.0h；b.其次进行等离子氧化，工艺参数：靶材电压650V~750V，工件电压250V~350V，靶材与工件间距10mm~15mm，Ar气压25Pa~40Pa，氧分压0.1Pa~1.0Pa，氧化时间1.5h~2.0h。