[发明专利]一种低散射损耗的高反射薄膜有效

专利信息
申请号: 201710865078.3 申请日: 2017-09-22
公开(公告)号: CN107748404B 公开(公告)日: 2019-10-01
发明(设计)人: 张锦龙;程鑫彬;焦宏飞;吴晗;王占山 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 翁惠瑜
地址: 200092 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种低散射损耗的高反射薄膜,包括由下而上依次设置的基板、第一薄膜、第二薄膜和第三薄膜,第一薄膜、第二薄膜和第三薄膜均由高折射率材料膜层H和低折射率材料膜层L交替设置构成,第一薄膜为1/4中心波长光学厚度的标准高反射薄膜结构,第二薄膜和第三薄膜均为全介质法珀腔薄膜结构,第一薄膜与基板接触的一侧为高折射率材料膜层H,第三薄膜与空气接触的一侧为高折射率材料膜层H,第一薄膜、第二薄膜和第三薄膜连接处高折射率材料膜层H和低折射率材料膜层L交替设置。与现有技术相比,本发明具有有效降低散射、材料选择范围广、制作成本低和易于推广等优点,在超高精度激光测量领域具有广泛的应用前景。
搜索关键词: 一种 散射 损耗 反射 薄膜
【主权项】:
1.一种低散射损耗的高反射薄膜,其特征在于,包括由下而上依次设置的基板(1)、第一薄膜(2)、第二薄膜(3)和第三薄膜(4),所述第一薄膜(2)、第二薄膜(3)和第三薄膜(4)均由高折射率材料膜层H和低折射率材料膜层L交替设置构成,所述第一薄膜(2)为1/4中心波长光学厚度的标准高反射薄膜结构,所述第二薄膜(3)和第三薄膜(4)均为全介质法珀腔薄膜结构,所述第一薄膜(2)与所述基板(1)接触的一侧为高折射率材料膜层H,所述第三薄膜(4)与空气接触的一侧为高折射率材料膜层H,所述第一薄膜(2)与第二薄膜(3)连接处以及第二薄膜(3)与第三薄膜(4)连接处高折射率材料膜层H和低折射率材料膜层L交替设置;所述第一薄膜(2)的结构为(HL)n1H,n1≥15。
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