[发明专利]一种阳极层离子源化学热处理装置及其应用在审
| 申请号： | 201710866317.7 | 申请日： | 2017-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN107587100A | 公开（公告）日： | 2018-01-16 |
| 发明（设计）人： | 唐光泽;马欣新 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | C23C8/36 | 分类号： | C23C8/36;C23C8/20;C23C8/24;C23C8/30 |
| 代理公司： | 哈尔滨市松花江专利商标事务所23109 | 代理人： | 贾泽纯 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种阳极层离子源化学热处理装置及其应用，本发明涉及化学热处理技术领域。本发明要解决现有装置存在离化率低，离子密度小，能量不可控的技术问题。该装置，包括4个阳极层离子源、4组真空加热体和工件台，其中4个阳极层离子源等间距均匀设置在真空室壁内，每组真空加热体设置在两个相邻阳极层离子源之间，真空室中间设置工件台。该装置应用于渗氮工艺的具体操作如下将工件装炉，抽真空，控制渗氮温度为400～600℃，通入前驱气体，调整气压为1～50Pa，开启阳极层离子源，控制阳极层离子源离子流为5～20A，进行渗氮处理，然后冷却，出炉。阳极层离子源发生装置具有离化率高，离子密度大，能量可控的技术特点。本发明装置用于化学热处理技术领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阳极 离子源 化学 热处理 装置 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种阳极层离子源化学热处理装置，其特征在于该装置包括4个阳极层离子源(1)、4组真空加热体(2)和工件台(3)，其中4个阳极层离子源(1)等间距均匀设置在真空室壁内，每组真空加热体(2)设置在两个相邻阳极层离子源(1)之间，真空室中间设置工件台(3)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工业大学，未经哈尔滨工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710866317.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种等离子喷枪
- 下一篇：一种浮动连接装置及便于拆装该浮动连接装置的维护工装
- 同类专利
- 专利分类
