[发明专利]带对准分析的成像设备有效
| 申请号： | 201710867756.X | 申请日： | 2017-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN107864375B | 公开（公告）日： | 2019-11-26 |
| 发明（设计）人： | J.M.克雷施;S.路德维希;R.加特纳 | 申请（专利权）人： | 弗兰克公司 |
| 主分类号： | H04N17/00 | 分类号： | H04N17/00 |
| 代理公司： | 72001 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 李晨;刘林华<国际申请>=<国际公布>= |
| 地址： | 美国华*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及带对准分析的成像设备，更具体地涉及一种利用指向目标的测量区的成像设备，其中该成像设备可以结合未对准分析特征而使用。该成像设备可以在不同的时间采集第一图像和第二图像。可对第一图像与第二图像进行比较，例如通过对成像设备在第一图像中的测量区的位置与成像设备在第二图像中的测量区的位置进行比较。基于该比较，可以提供成像设备相对于目标的未对准指示。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 分析 成像 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于确定成像设备的未对准的方法，所述方法包括：/n在第一时间利用所述成像设备采集第一可见光图像；/n生成代表测量区的视觉指示物到所述第一可见光图像上；/n在第二时间利用所述成像设备采集第二可见光图像，所述第二时间是在所述第一时间之后；/n生成代表所述测量区的所述视觉指示物到所述第二可见光图像上；/n对在所述第一可见光图像中所述成像设备的测量区的位置与在所述第二可见光图像中所述成像设备的所述测量区的位置进行比较；以及/n利用在所述第一可见光图像中所述成像设备的所述测量区的所述位置与在所述第二可见光图像中所述成像设备的所述测量区的所述位置的比较的结果，改变所述成像设备的位置，其中，所述比较的结果是所述成像设备的所述测量区在所述第一与第二可见光图像之间的位置变化的数值测量，并且其中，所述成像设备的所述测量区在所述第一与第二可见光图像之间的位置变化的所述数值测量是相对于所述视觉指示物。/n
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