[发明专利]一种纳米线吸收谱的测量方法及系统有效

专利信息
申请号: 201710873446.9 申请日: 2017-09-25
公开(公告)号: CN107576615B 公开(公告)日: 2020-09-29
发明(设计)人: 杜文娜;武志勇;时佳;陈杰;张帅;米阳;刘新风 申请(专利权)人: 国家纳米科学中心
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N21/31
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 巩克栋
地址: 100190 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例公开了一种纳米线吸收谱的测量方法及系统,其中测量方法应用于不透明衬底上纳米线吸收谱的测量,包括:采集显微镜明场下所述不透明衬底反射强度谱线;采集显微镜明场下所述不透明衬底上待测单根纳米线反射强度谱线;根据所述不透明衬底反射强度谱线以及所述不透明衬底上待测单根纳米线反射强度谱线,计算不透明衬底上待测单根纳米线的吸收谱。本发明实施例提供的一种纳米线吸收谱的测量方法及系统,利用显微镜及CCD成像系统可以从不透明衬底上确定待测单根纳米线,实现微区吸收谱测量;利用反射式测量方法获取不透明衬底反射强度谱线以及不透明衬底上待测单根纳米线反射强度谱线,实现了不透明衬底上单根纳米线的吸收谱测量。
搜索关键词: 一种 纳米 吸收 测量方法 系统
【主权项】:
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