[发明专利]锍盐、抗蚀剂组合物和图案化方法在审
| 申请号： | 201710888351.4 | 申请日： | 2017-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN107870519A | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 藤原敬之;大桥正树;谷口良辅 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/038;G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人： | 杜丽利 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明为锍盐、抗蚀剂组合物和图案化方法。在使用特定结构的锍盐作为PAG时，抑制了酸扩散。在通过光刻法加工时，包括所述锍盐的抗蚀剂组合物形成具有改进的光刻性质(包括EL、MEF和LWR)的图案。 | ||
| 搜索关键词： | 锍盐 抗蚀剂 组合 图案 方法 | ||
【主权项】：
具有式(1)的锍盐：其中，R1至R3各自独立地为C1‑C20直链、支链或环状的一价烃基，其可以包含杂原子，R1和R2、R1和R3或者R2和R3的一对可以与它们所连接的苯环和其间的氮原子键合在一起以形成环，或基团R1至R3的多个可以相同或不同并且与它们所连接的苯环上的碳原子键合在一起以形成环，当p、q和/或r为至少2的整数时，R4和R5各自独立地为C1‑C30直链、支链或环状的一价烃基，其可以包含杂原子，或R4和R5的一对可以与它们所连接的硫原子键合在一起以形成环，p和q各自独立地为0至5的整数，r为0至4的整数，和Z‑为一价阴离子。
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