[发明专利]指纹识别传感器及其制作方法和显示装置有效
申请号: | 201710890274.6 | 申请日: | 2017-09-27 |
公开(公告)号: | CN107657231B | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 刘文渠;张锋;吕志军;董立文;张世政;党宁 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G06K9/00 | 分类号: | G06K9/00 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭润湘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及指纹识别技术领域,公开了一种指纹识别传感器及其制作方法和显示装置,以提高显示装置的产品品质。指纹识别传感器包括呈阵列排布的多个指纹识别单元,其特征在于:每个指纹识别单元包括衬底基板,设置于所述衬底基板一侧的图像采集装置,以及依次设置于所述衬底基板另一侧的第一光栅结构和第二光栅结构,所述第一光栅结构具有与所述图像采集装置位置相对的第一成像孔,所述第二光栅结构具有与所述图像采集装置位置相对的第二成像孔,所述第一光栅结构的狭缝延伸方向与所述第二光栅结构的狭缝延伸方向相垂直。 | ||
搜索关键词: | 指纹识别 传感器 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】:
一种指纹传感器,包括呈阵列排布的多个指纹识别单元,其特征在于:每个指纹识别单元包括衬底基板,设置于所述衬底基板一侧的图像采集装置,以及依次设置于所述衬底基板另一侧的第一光栅结构和第二光栅结构,所述第一光栅结构具有与所述图像采集装置位置相对的第一成像孔,所述第二光栅结构具有与所述图像采集装置位置相对的第二成像孔,所述第一光栅结构的狭缝延伸方向与所述第二光栅结构的狭缝延伸方向相垂直。
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