[发明专利]一种共聚焦系统的超分辨成像方法及系统有效
| 申请号： | 201710891789.8 | 申请日： | 2017-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN107764779B | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 何涛;黄海清;胡洁;戚进;沈健;胡方凯;陈集懿 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | G01N21/63 | 分类号： | G01N21/63 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人： | 郭国中 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种共聚焦系统的超分辨成像方法及系统，包括：通过sCMOS相机获取共聚焦系统的原始扫描图像，并进行三次插值；通过对获取的原始扫描图像的像素数据进行重排，获取经过像素重排后的扫描图像；建立位置相关的减法成像系数，将像素重排后的像素点与三次插值后的像素点相应位置进行相减，得到新的图像；对新的图像进行反卷积处理获得去卷积后的图像。本发明能够有效地利用每个像素的位置信息，避免传统的直接将扫描点的图像相加从而损失细节的缺点，有效地提高了共聚焦系统的分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 聚焦 系统 分辨 成像 方法 | ||
【主权项】：
一种共聚焦系统的超分辨成像方法，其特征在于，包括图像获取步骤：通过sCMOS相机获取共聚焦系统的原始扫描图像，并进行三次插值；像素重排步骤：通过对获取的原始扫描图像的像素数据进行重排，获取经过像素重排后的扫描图像；减法成像系数建立步骤：建立位置相关的减法成像系数，将像素重排后的扫描图像与原始扫描图像相应位置进行相减，得到新的图像；反卷积处理步骤：对新的图像进行反卷积处理获得去卷积后的图像。
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