[发明专利]高强度的聚偏氟乙烯多孔膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201710895306.1 | 申请日： | 2017-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN107497306B | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 谢锐;赵倩;骆枫;褚良银;刘壮;巨晓洁;汪伟 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | B01D71/34 | 分类号： | B01D71/34;B01D69/02;B01D67/00 |
| 代理公司： | 成都科海专利事务有限责任公司 51202 | 代理人： | 郭萍 |
| 地址： | 610065 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种高强度的聚偏氟乙烯多孔膜，该多孔膜的表面和断面具有微米级孔结构，多孔膜断面的孔结构呈胞腔状且胞腔状孔在多孔膜孔的断面上均匀分布，该多孔膜的结晶度为30％～39％，该多孔膜的厚度为25～60μm，孔隙率为64％～88％，拉伸断裂应力为2.0～4.5MPa。本发明还提供了该聚偏氟乙烯多孔膜的制备方法，步骤如下：(1)将聚偏氟乙烯干粉溶解于45～65℃的N‑甲基吡咯烷酮中形成均匀的铸膜液；(2)将脱气后的铸膜液制成连续均匀的液膜，立即将载有液膜的铸膜平板在45～65℃、相对湿度为60％～80％的恒温恒湿条件下静置0.5～20min，然后将载有液膜的铸膜平板放入温度为室温的水中浸泡至液膜完全凝固，将凝固后的膜在水中洗涤，将洗涤后的膜干燥即得。 | ||
| 搜索关键词： | 强度 聚偏氟 乙烯 多孔 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种高强度的聚偏氟乙烯多孔膜，其特征在于该多孔膜的表面和断面具有微米级孔结构，多孔膜断面的孔结构呈胞腔状且胞腔状孔在多孔膜孔的断面上均匀分布，该多孔膜的结晶度为30％～39％。
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