[发明专利]超薄晶圆的封装方法有效
申请号: | 201710895810.1 | 申请日: | 2017-09-28 |
公开(公告)号: | CN107706120B | 公开(公告)日: | 2019-10-22 |
发明(设计)人: | 詹苏庚;王红;吴迪;刘天德;张鹏阳;唐叶新 | 申请(专利权)人: | 深圳赛意法微电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56 |
代理公司: | 深圳市隆天联鼎知识产权代理有限公司 44232 | 代理人: | 刘抗美;李睿 |
地址: | 518000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种超薄晶圆的封装方法,所述超薄晶圆为一体成型结构,包括:超薄晶圆本体和设置于所述超薄晶圆本体周向外缘的外环,所述外环的厚度大于所述超薄晶圆本体的厚度;外环的正面和超薄晶圆本体的正面平齐;外环的背面凸出于超薄晶圆本体的背面;该超薄晶圆的封装方法包括:贴膜步骤:在所述超薄晶圆的背面贴底膜,使超薄晶圆本体和外环均与底膜贴合;切割步骤:切除外环,从超薄晶圆本体的正面进行切割,以切割出若干个芯片;贴片封装步骤:将切割形成的芯片从底膜上分离,并移至引线框架上进行封装。 | ||
搜索关键词: | 超薄 封装 方法 | ||
【主权项】:
1.一种超薄晶圆的封装方法,其特征在于,所述超薄晶圆为一体成型结构,所述超薄晶圆的厚度为50微米~100微米,包括:超薄晶圆本体和设置于所述超薄晶圆本体周向外缘的外环,所述外环的厚度大于所述超薄晶圆本体的厚度;外环的正面和超薄晶圆本体的正面平齐;外环的背面凸出于超薄晶圆本体的背面;该超薄晶圆的封装方法包括:贴膜步骤:将超薄晶圆置于真空贴膜机中,同时预热温度至60℃,并在小于50毫巴(mbar)的大气压力条件下将底膜贴于超薄晶圆的背面,使超薄晶圆本体和外环均与底膜贴合;切割步骤:切除外环,从超薄晶圆本体的正面进行切割,以切割出若干个芯片;贴片封装步骤:将切割形成的芯片从底膜上分离,并移至引线框架上进行封装;所述将切割形成的芯片从底膜上分离包括:利用方形矩阵分布的顶针从超薄晶圆本体的背面隔着底膜将芯片顶起,同时利用吸嘴从超薄晶圆的正面将芯片吸起;所述吸嘴包括一吸附端,其端面的尺寸小于芯片的尺寸,该吸附端的端面中间位置设有十字交叉的凹部,该凹部的中心为真空吸孔,吸嘴的吸附端朝向超薄晶圆本体正面并使该凹部形成真空腔从而将芯片吸起。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造