[发明专利]一种用于高层幕墙清洁度检测的装置在审

专利信息
申请号: 201710902273.9 申请日: 2017-09-29
公开(公告)号: CN107449793A 公开(公告)日: 2017-12-08
发明(设计)人: 丁伟 申请(专利权)人: 成都意町工业产品设计有限公司
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司51214 代理人: 韩雪
地址: 610041 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种用于高层幕墙清洁度检测的装置,包括在光路传输方向上依次放置的光源、测量窗、探测器、处理器,利用X光源在高层幕墙上激发荧光辐射,激发的荧光X射线经过涂有含氮溶液的基板后使荧光X射线的强度得到提升,进而使探测器接收到的荧光辐射的变化量更加灵敏,通过探测器的荧光X射线被发送至处理器分析后得到荧光光谱图,根据荧光辐射的光谱分析得出表面杂质相对含量,结构简单,分析结果可靠性高,分析速度快,抗干扰能力强,有助于清洁机器人的清洁规划和清洁工作检验,减少重复性的劳动耗损,节约清洁成本,提高清洁效率。
搜索关键词: 一种 用于 高层 幕墙 清洁 检测 装置
【主权项】:
一种用于清洁度检测的装置,其特征在于包括在光路传输方向上依次放置的光源、测量窗、探测器、处理器,其中:光源用于提供X射线激发光源,激发光源入射到待测表面,入射的激发光源被待测表面材料部分吸收并激发荧光辐射;测量窗,包括基板和测量腔,供入射光源与反射荧光通过,其中基板与待测表面平行相对,测量腔用于放置基板;探测器由荧光光谱辐射探测器和对应的电路主板组成,用于接收从待测表面被激发并反射的荧光辐射;处理器,对检测的荧光辐射进行光谱分析,生成并输出分析结果,该分析结果包括表面杂质的相对含量的测定。
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