[发明专利]半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710908482.4 申请日: 2017-09-29
公开(公告)号: CN109087899B 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 曹俊铉;柳泳奭;安宰镛;赵日焕 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485;H01L21/60
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;刘久亮
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 半导体器件及其制造方法。一种半导体器件包括:半导体芯片,其具有通过钝化层暴露的焊盘;凸块柱,其形成在与焊盘相邻的钝化层上方但不与焊盘交叠。半导体芯片还具有焊料层,该焊料层包括焊料凸块部分和焊料焊脚部分,该焊料凸块部分形成在凸块柱上方,该焊料焊脚部分形成在凸块柱的面向焊盘的一侧以覆盖焊盘,并且该焊料焊脚部分将凸块柱与焊盘电联接。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体器件,该半导体器件包括:半导体芯片,所述半导体芯片具有通过钝化层暴露的焊盘;凸块柱,所述凸块柱形成在与所述焊盘相邻的所述钝化层上方,但不与所述焊盘交叠;以及焊料层,所述焊料层包括焊料凸块部分和焊料焊脚部分,所述焊料凸块部分形成在所述凸块柱上方,所述焊料焊脚部分形成在所述凸块柱的面向所述焊盘的一侧以覆盖所述焊盘,并且所述焊料焊脚部分将所述凸块柱与所述焊盘电联接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于爱思开海力士有限公司,未经爱思开海力士有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710908482.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top