[发明专利]用于离子束研磨的离子喷射器和透镜系统

摘要

本文涉及用于离子束研磨的离子喷射器和透镜系统，本文的实施例涉及用于对半导体衬底执行离子蚀刻的方法和装置、以及用于形成这样的装置的方法。在一些实施例中，可以制造电极部件，电极部件包含具有不同目的的多个电极，每个电极以机械稳定的方式固定到下个。在电极固定在一起之后可以在每个电极中形成开口，因而保证开口在邻近电极之间良好对准。在一些情况下，电极由简并掺杂硅制成，并且电极部件通过静电键合固定在一起。还可以使用其他电极材料和固定的方法。在一些情况下，电极部件可以包含中空阴极发射极电极，其可以具有截锥形或者其他非圆筒开口形状。在一些情况下，还可以存在腔室衬垫和/或反射器。

主权项

一种用于蚀刻半导体衬底的装置，所述装置包括：反应室；衬底支撑件；用于向所述反应室供应一种或多种气体或等离子体的入口；第一电极、第二电极和第三电极，每一个在其中具有多个开口，其中所述第二电极位于所述第一电极的下方，并且其中所述第三电极位于所述第二电极的下方；包括多个中空阴极发射极的中空阴极发射极电极，其中所述中空阴极发射极与所述第一电极、所述第二电极和所述第三电极中的所述开口对准，并且其中所述中空阴极发射极电极位于所述第一电极的上方；和一个或多个射频(RF)源，其被配置为执行以下操作中的一种或多种：(i)在所述中空阴极发射极电极上方产生等离子体，(ii)向所述中空阴极发射极电极施加偏置，(iii)向所述第一电极施加偏置，和/或(iv)向所述第二电极施加偏置。