[发明专利]一种光学器件均匀打磨的方法有效
| 申请号： | 201710923679.5 | 申请日： | 2017-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN107685284B | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 陆海锋 | 申请（专利权）人： | 德清晶生光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/30 | 分类号： | B24B37/30;B24B55/00 |
| 代理公司： | 浙江英普律师事务所 33238 | 代理人： | 王炎军 |
| 地址： | 313200 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学器件均匀打磨方法，其步骤为：S1、将游星轮放入抛光机中；S2、将光学器件放入加工腔，所述加工腔设在游星轮的打磨孔中，加工腔可相对打磨孔自由转动；S3、开始打磨，游星轮随抛光机主动轮转动并具有自转速度w1，加工腔随游星轮和光学器件转动并具有自转速度w2，所述w1≠w2。本发明的技术方案使打磨过程中光学器件各部分所经过的研磨路径基本相同。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 器件 均匀 打磨 方法 | ||
【主权项】：
一种光学器件均匀打磨的方法，其步骤为：S1、将游星轮放入抛光机中；S2、将光学器件放入加工腔，所述加工腔设在游星轮的打磨孔中，加工腔可相对打磨孔自由转动；S3、开始打磨，游星轮随抛光机主动轮转动并具有自转速度w1，加工腔随游星轮和光学器件转动并具有自转速度w2，所述w1≠w2。
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