[发明专利]一种稀土层状氢氧化物薄膜的直接制备方法

摘要

本发明公开了一种Ln₂(OH)₅NO₃·nH₂O稀土层状氢氧化物薄膜的直接制备方法。将Ln(NO₃)₃·6H₂O溶解于去离子水中配制成稀土离子浓度为0.005～1mol/L的稀土离子溶液，然后加入添加剂，混合均匀后获得电沉积溶液，置于水浴中，使其温度达到所需温度；在电沉积溶液中插入三电极体系，通过电沉积反应在在工作电极上沉积一层薄膜，将薄膜分别用去离子水、无水乙醇冲洗，然后置于鼓风干燥箱中干燥，制得Ln₂(OH)₅NO₃·nH₂O薄膜。本发明操作简单，相比于先做粉后成膜的传统方法，极大地简化了薄膜制备方法，同时避免了粉末形貌对成膜质量的影响；并且本发明提供的方法操作简单，耗时短，薄膜质量好。

主权项

1.一种Ln₂(OH)₅NO₃·nH₂O稀土层状氢氧化物薄膜的直接制备方法，其特征在于具体步骤为：/n(1)将Ln(NO₃)₃·6H₂O溶解于去离子水中配制成稀土离子总浓度为0.005～0.5mol/L的稀土离子溶液，然后加入添加剂，其中添加剂的加入量与稀土离子的摩尔比为1～50:1，混合均匀后获得电沉积溶液；/n(2)将步骤(1)制得的电沉积溶液置于水浴中，搅拌使电沉积溶液的温度达到5～80℃，获得备用电沉积溶液；/n(3)以透明导电玻璃或者金属片或者碳材料为工作电极即阴极，Pt网作为对电极即阳极，Ag/AgCl/Cl^-电极作为参比电极，组成三电极体系；/n(4)将步骤(3)组成的三电极体系插入步骤(2)获得的备用电沉积溶液中，设置沉积电压为-0.8～-1.3V，沉积时间为3min～3h，在工作电极上沉积一层电沉积薄膜；/n(5)将步骤(4)制得的电沉积薄膜分别用去离子水、无水乙醇冲洗，然后置于30～80℃的鼓风干燥箱中干燥5min～24h，即制得Ln₂(OH)₅NO₃·nH₂O稀土层状氢氧化物薄膜；/n所述Ln为La、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Y中的任意一种；/n所述添加剂为NH₄NO₃、NaNO₃、KNO₃中的任意一种；/n所述透明导电玻璃为一侧表面镀有ITO或者FTO或者AZO层的玻璃；/n所述金属片的材料为Cu、Ag，Ni、Fe中的任意一种。/n