[发明专利]一种电化学装置隔离膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201710931199.3 | 申请日： | 2017-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN107732108A | 公开（公告）日： | 2018-02-23 |
| 发明（设计）人： | 程跃;陈永乐;鲍晋珍;何方波;王伟强 | 申请（专利权）人： | 上海恩捷新材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01M2/14 | 分类号： | H01M2/14;H01M2/16;H01M10/0525 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 张睿 |
| 地址： | 201399 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电化学装置隔离膜及其制备方法。所述隔离膜涂层原料含有聚苯并咪唑。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电化学 装置 隔离 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种可用于电化学装置的隔离膜涂层，其特征在于，所述涂层原料含有聚苯并咪唑；所述聚苯并咪唑分子量在2‑20万之间。
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