[发明专利]一种激光溅射法制备CsPbBr3薄膜的方法

摘要

本发明阐述了一种激光溅射法制备CsPbBr₃薄膜的方法。具体步骤为：先通过DMF、DMSO、环己醇、PbBr₂、CsBr材料以溶液加热方法制备出足量的CsPbBr₃单晶并压成靶材，再采用脉冲激光沉积薄膜制备技术：调整激光能量和基底温度，通过激光脉冲数控制薄膜厚度，真空沉积制备CsPbBr₃薄膜。本发明利用脉冲激光沉积技术制备CsPbBr₃薄膜，可实现均匀大面积薄膜的便捷制备，易于有效控制薄膜厚度并且节约材料，有利于该材料在太阳能电池的工业化生产与应用。

主权项

1.一种激光溅射法制备CsPbBr₃薄膜的方法，其特征在于该方法包括以下步骤：1.)制备CsPbBr₃靶材：采用溶液加热法定量混合DMF、DMSO、环己醇、PbBr₂、CsBr制备出足量的CsPbBr₃单晶粉末，用压片机压制后制成CsPbBr₃靶材；2.)将干净的衬底与制备好的CsPbBr₃靶材共同放入脉冲激光沉积腔体中，抽真空，加热衬底，同时调节入射腔体激光的能量，随后设定激光脉冲数开始沉积；3.)沉积结束后，衬底在腔体内保持加热温度真空退火后取出，得到CsPbBr₃薄膜；所述溶液加热法定量混合DMF、DMSO、环己醇、PbBr₂、CsBr制备出足量的CsPbBr₃单晶粉末，室温下利用压片机制成靶材，其中DMSO、CsBr、PbBr₂、环己醇、DMF的加入量为：DMSO:CsBr:PbBr₂:环己醇:DMF＝(20‑35):(0.5‑1.5):(1‑3):(5‑8):(12‑20)。