[发明专利]一种全息瞄准镜衍射光学元件的制作方法在审
| 申请号： | 201710941872.1 | 申请日： | 2017-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN107544107A | 公开（公告）日： | 2018-01-05 |
| 发明（设计）人： | 蔡志坚;鄢红日 | 申请（专利权）人： | 盖伯精工（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03H1/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种全息瞄准镜衍射光学元件的制作方法，包括以下步骤计算所需要的条纹分布和相位分布；将条纹分布和相位分布转化为模板深度分布和曝光量分布；根据模板深度分布和曝光量分布，在光致抗蚀剂基片制作光刻胶掩膜；将光刻胶掩膜复制到金属铬上形成表面微结构，得到铬模板；将铬模板上的表面微结构复制到衍射光学基片上，制得全息瞄准镜衍射光学元件。采用计算机算法获得所需的衍射图案，不会受到实际光学元件制造误差、瑕疵、环境杂散光以及光学系统调节误差的影响；采用电子束扫描或紫外扫描曝光制作光刻胶模板，通过电铸成形方法制作铬模板，不需要复杂的全息曝光光路，对光学系统的调节要求降低，环境因素的影响也大大降低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 全息 瞄准 衍射 光学 元件 制作方法 | ||
【主权项】：
一种全息瞄准镜衍射光学元件的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、计算衍射光学元件上所需要的条纹分布和相位分布；S2、将所述条纹分布和所述相位分布转化为模板深度分布和曝光量分布；S3、根据所述模板深度分布和所述曝光量分布，通过扫描曝光法在光致抗蚀剂基片制作浮雕三维机构，得到光刻胶掩膜；S4、通过电铸成型法将所述光刻胶掩膜复制到金属铬上形成表面微结构，得到铬模板；S5、将所述铬模板上的表面微结构复制到衍射光学基片上，制得全息瞄准镜衍射光学元件。
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