[发明专利]具有至少一个操纵器的投射曝光设备及操作其的方法有效
| 申请号： | 201710942715.2 | 申请日： | 2013-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN107589635B | 公开（公告）日： | 2020-06-23 |
| 发明（设计）人： | B.比特纳;N.瓦布拉;M.范霍登伯格 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开提供了一种用于微光刻的投射曝光设备(10)以及用于操作这种投射曝光设备的方法。该投射曝光设备(10)包括：投射镜(22)，具有多个光学元件(E1‑E4)，用于在曝光过程期间将掩模结构成像到基底(24)上；至少一个操纵器(M1‑M4)，其被配置为通过沿着预定行程(45)改变所述光学元件的状态变量而改变所述投射镜内的光学元件(E1‑E4)中的至少一个的光学效果，作为操作器致动的一部分；算法产生器(42)，其被配置为基于至少一个预定成像参数(30、46)产生适配于所述至少一个预定成像参数(30、46)的行程产生优化算法(52)；以及行程建立装置(44)，其被配置为通过所述行程产生优化算法为操纵器致动建立至少一个行程(45)。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 至少 一个 操纵 投射 曝光 设备 操作 方法 | ||
【主权项】：
一种用于微光刻的投射曝光设备(10)，包括：‑投射镜(22)，具有多个光学元件(E1‑E4)，用于在曝光过程期间将掩模结构成像到基底(24)上，‑至少一个操纵器(M1‑M4)，其被配置为通过沿着预定行程(45)改变所述光学元件的状态变量而改变所述投射镜内的光学元件(E1‑E4)中的至少一个的光学效果，作为操作器致动的一部分，‑算法产生器(42)，其被配置为基于至少一个预定成像参数(30、46)产生适配于所述至少一个预定成像参数(30、46)的行程产生优化算法(52)，其中，所述至少一个成像参数(30、46)包括关于要在后续曝光过程期间成像的掩模结构的结构信息(46)和/或关于要在所述后续曝光过程期间辐射到所述掩模结构上的曝光辐射(14)的角度分布的结构信息(30)，以及‑行程建立装置(44)，其被配置为通过所述行程产生优化算法为操纵器致动建立至少一个行程(45)。
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