[发明专利]一种重新布线层结构及其制作方法在审
申请号: | 201710945346.2 | 申请日: | 2017-10-12 |
公开(公告)号: | CN107731691A | 公开(公告)日: | 2018-02-23 |
发明(设计)人: | 陈彦亨;林正忠;吴政达 | 申请(专利权)人: | 中芯长电半导体(江阴)有限公司 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L23/498 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙)31219 | 代理人: | 刘星 |
地址: | 214437 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种重新布线层结构及其制作方法,所述重新布线层结构包括基板、聚合物层、若干通孔、重新布线层及凹槽,其中,基板表面设有若干导电焊盘,聚合物层形成于基板表面,通孔形成于聚合物层中,并暴露出导电焊盘,重新布线层形成于聚合物层表面,并覆盖通孔的侧壁与底部,与所述导电焊盘之间形成电性连接,凹槽形成于所述重新布线层表面预设位置。本发明的重新布线层结构的制作方法采用激光在重新布线层表面预设位置形成凹槽,使植球制程能够将焊球放入凹槽中,或者接合裸片时能够将裸片正面的导电凸块放入凹槽中,从而无需在重新布线层上涂布第二层聚合物层,也无需制作凸块下金属层,从而可以大幅降低封装成本,并有利于减小封装厚度。 | ||
搜索关键词: | 一种 重新 布线 结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种重新布线层结构,其特征在于,包括:基板,所述基板表面设有若干导电焊盘;一聚合物层,形成于所述基板表面;若干通孔,形成于所述聚合物层中,并暴露出所述导电焊盘;重新布线层,形成于所述聚合物层表面,并覆盖所述通孔的侧壁与底部,与所述导电焊盘之间形成电性连接;凹槽,形成于所述重新布线层表面预设位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯长电半导体(江阴)有限公司,未经中芯长电半导体(江阴)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710945346.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种具有音箱的电动车
- 下一篇:非易失性存储器设备和包括其的存储设备
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造