[发明专利]高纯度铝涂层硬阳极化有效
| 申请号： | 201710947980.X | 申请日： | 2011-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN107731648B | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | A·H·乌耶;R·M·科克 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 李炜;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明关于一种用于等离子体处理腔室设备中的腔室部件、用于等离子体处理腔室中的设备以及用于制造腔室部件的方法。一种用于等离子体处理设备中的腔室部件包含：铝主体，所述铝主体具有安置于所述主体的经抛光的外表面上的经抛光的铝涂层，其中所述主体的所述经抛光的外表面具有8μin Ra或更光滑的光洁度；以及硬阳极化涂层，所述硬阳极化涂层安置于所述铝涂层上，其中所述经抛光的铝涂层具有8μin Ra或更光滑的光洁度。 | ||
| 搜索关键词： | 纯度 涂层 阳极 | ||
【主权项】：
1.一种用于等离子体处理设备中的腔室部件，所述腔室部件包含：/n铝主体，所述铝主体具有安置于所述铝主体的经抛光的外表面上的经抛光的铝涂层，其中所述铝主体的所述经抛光的外表面具有8μin Ra或更光滑的光洁度，并且其中镍闪光黏着层被进一步设置在所述经抛光的外表面与所述经抛光的铝涂层之间并且作为所述铝主体与所述经抛光的铝涂层之间的阻挡层，以阻挡来自所述铝主体的杂质迁移至所述经抛光的铝涂层中；以及/n硬阳极化涂层，所述硬阳极化涂层安置于所述经抛光的铝涂层上，其中所述经抛光的铝涂层具有8μin Ra或更光滑的光洁度。/n
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