[发明专利]卤素取代杂环化合物

摘要

本发明涉及卤素取代杂环化合物，提供具有强LPA受体拮抗作用，可用于医药的新型α位卤素取代噻吩化合物或其药学上可接受的盐。一种通式(I)所表示的化合物或其盐，[式中，A表示苯环、噻吩环或异噻唑环；R1相同或不同，表示卤素原子或C1‑C3烷基；R2表示氢原子或C1‑C6烷基；p表示0～5的整数；V表示CR3(式中，R3表示氢原子、氨基、硝基或C1‑C3烷氧基)或氮原子；X表示卤素原子。]。

主权项

一种合成通式(I)的化合物或其药学上可接受的盐的方法，该方法包含如下工序：(工序A)使化合物(2)与化合物(27)在反应溶剂中、在偶联催化剂、配体和/或碱存在下进行反应，由此合成化合物(28)的工序；(工序B)使所述工序A中合成的化合物(28)在反应溶剂中、在钯催化剂、配体、硼酸试剂和/或碱存在下进行反应，或者在Lb表示氯原子、溴原子或碘原子的情况下，在反应溶剂中、使用碱对卤素基团Lb进行卤素‑金属交换之后，用硼酸试剂处理，由此合成化合物(4)的工序；(工序C)对化合物(15)，在反应溶剂中、使用卤化剂进行卤化，或者在反应溶剂中、使用碱形成阴离子后，用卤化剂处理，由此合成化合物(14)的工序；(工序D)使所述工序B中合成的化合物(4)与所述工序C中合成的化合物(14)在反应溶剂中、在偶联催化剂、配体和/或碱存在下进行反应，由此合成化合物(7)的工序；以及(工序E)在反应溶剂中或无溶剂、在碱的存在或非存在下使用化合物(6)和/或氧化剂，使所述工序D中合成的化合物(7)进行霍夫曼重排反应，合成通式(I)的化合物的工序，且该方法任选包含(工序F)在所述工序E中合成的通式(I)的化合物的R2为C1‑C6烷基的情况下，使该通式(I)的化合物在反应溶剂中、在酸或碱存在下进行水解反应，由此合成通式(I’)的化合物的工序，式中，A表示苯环、噻吩环、或异噻唑环，R1相同或不同，表示卤素原子或C1‑C3烷基，R2表示氢原子或C1‑C6烷基，p表示0～5的整数，V表示CR3或氮原子，式中，R3表示氢原子、氨基、硝基或C1‑C3烷氧基，X表示卤素原子，L和M表示偶联反应所需的取代基，La表示与L同义，Lb表示氯原子、溴原子、碘原子或三氟甲磺酰氧基，Ma表示硼酸或硼酸酯。