[发明专利]护膜打印及维护有效
| 申请号： | 201710962703.6 | 申请日： | 2017-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN108016132B | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 阿历克斯·韦斯;龙·图特瑙尔 | 申请（专利权）人： | 惠普赛天使公司 |
| 主分类号： | B41J2/01 | 分类号： | B41J2/01;B41J2/165;B41J29/393 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 梁洪源;康泉 |
| 地址： | 以色列*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及护膜打印及维护。在本文公开的某些示例中，沉积机构执行护膜沉积操作。该沉积机构包括多个打印头阵列。每个打印头阵列可被设置在沉积位置以将护膜层沉积到基板上，并且可被设置在维护位置以使得能够执行维护。在某些情况下，在通过该沉积机构执行的正在进行的护膜沉积操作期间，阵列控制器使多个打印头阵列中的至少一个打印头阵列根据预定维护序列，周期性地从沉积位置移动到维护位置。 | ||
| 搜索关键词： | 打印 维护 | ||
【主权项】：
1.一种装置，包括：沉积机构，所述沉积机构用于执行护膜沉积操作，所述沉积机构包括多个打印头阵列，每个打印头阵列能够被设置在沉积位置以将护膜层沉积到基板上，并且能够被设置在维护位置以使得能够执行维护；以及阵列控制器，所述阵列控制器用于在通过所述沉积机构执行的正在进行的护膜沉积操作期间，使所述多个打印头阵列中的至少一个打印头阵列根据预定维护序列周期性地从所述沉积位置移动到所述维护位置。
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