[发明专利]一种基于鼓泡法的石墨烯场效应晶体管的制备方法在审
申请号: | 201710966517.X | 申请日: | 2017-10-17 |
公开(公告)号: | CN107768251A | 公开(公告)日: | 2018-03-06 |
发明(设计)人: | 王权;曾元明;董金耀;王江祥;韦国成 | 申请(专利权)人: | 江苏大学;镇江市电子管厂 |
主分类号: | H01L21/336 | 分类号: | H01L21/336;H01L21/28;H01L21/683;H01L29/06;H01L29/423;H01L29/51 |
代理公司: | 常州市科谊专利代理事务所32225 | 代理人: | 孙彬 |
地址: | 212000*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开一种石墨烯场效应晶体管,特指一种基于鼓泡法的石墨烯场效应晶体管的制备方法,包括提供衬底,在所选衬底上形成氧化层;在氧化层上进行光刻打孔;在孔上方转移形成双层石墨烯沟道;将转移后的石墨烯放在抽真空机中,进行抽真空操作,然后进行充气,充入氮气。本发明采用密闭条件下在真空泵中,对于悬置于孔上方的石墨烯进行压缩抽真空,增大了石墨烯的应力,提高了石墨烯场效应晶体管的开关比,增强了场效应晶体管的敏感特性。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 鼓泡法 石墨 场效应 晶体管 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种基于鼓泡法的石墨烯场效应晶体管的制备方法,其特征包括以下几个步骤:(1)在提供硅衬底上生长形成氧化层SiO2的过程;(2)对SiO2表面进行预处理,保持表面绝对干燥,涂覆一层HMDS化学增附剂,防止脱落,均匀旋涂光刻胶,然后烘干使胶固化,进行曝光、显影,将掩模板上图形转移到光刻胶上,进行光刻;(3)通过机械剥离法得到的石墨烯转移到制作好的衬底上的步骤;(4)将衬底放入抽真空泵中,改变石墨烯表面应力的步骤:将衬底植入抽真空泵中,将密封装置抽至低压状态,控制真空泵内部压力值,然后通入N2,利用孔内部和外部不同压强的作用,首先,使石墨烯向孔内部压缩,然后通入N2,气体通过石墨烯与衬底之间的间隙,内部压强增大,石墨烯向外膨胀;(5)在石墨烯两端分别溅射TiW和Au作为场效应晶体管的源极和漏极的步骤;(6)在源极和漏极之间的石墨烯沟道上方形成一层缓冲层ZrO2和栅介质层HfO2,溅射Au,作为栅极,形成一种顶栅结构的石墨烯场效应晶体管。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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